[发明专利]一种N型多晶硅双面电池制备方法在审

专利信息
申请号: 201811172452.2 申请日: 2018-10-09
公开(公告)号: CN109244190A 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 廖晖;包健;徐冠群;李明;左严严;金浩;张昕宇 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/068
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 罗满
地址: 314416 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种N型多晶硅双面电池制备方法,包括:对制绒后的N型硅片进行硼扩散,并去除N型硅片背表面所形成的背面P+层,N型硅片为通过对多晶硅锭的尾部进行切割得到的多晶硅片;对去除背面P+层的N型硅片进行背表面扩散吸杂处理,并去除吸杂层;对去除吸杂层的N型硅片的背表面进行磷扩散;去除N型硅片表面所形成的PSG,在N型硅片的正表面和背表面分别制备钝化层,并在N型硅片的正表面和背表面分别制备电极。本申请公开的上述技术方案,通过吸杂处理以减少由多晶硅锭的尾部所生产出的N型硅片中的杂质,从而提高了对多晶硅锭尾部的利用率和N型多晶硅双面电池的少子寿命,进而提高了N型多晶硅双面电池的转换效率。
搜索关键词: 背表面 去除 双面电池 制备 多晶硅锭 吸杂层 正表面 吸杂 背面 多晶硅片 少子寿命 转换效率 钝化层 磷扩散 硼扩散 电极 制绒 切割 扩散 申请 生产
【主权项】:
1.一种N型多晶硅双面电池制备方法,其特征在于,包括:对制绒后的N型硅片进行硼扩散,并去除所述N型硅片背表面所形成的背面P+层,所述N型硅片为通过对多晶硅锭的尾部进行切割得到的多晶硅片;对去除背面P+层的N型硅片进行背表面扩散吸杂处理,并去除吸杂层;对去除所述吸杂层的N型硅片的背表面进行磷扩散,以制备BSF;去除所述N型硅片表面所形成的PSG,在所述N型硅片的正表面和背表面分别制备钝化层,并在所述N型硅片的正表面和背表面分别制备电极,以得到N型多晶硅双面电池。
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