[发明专利]一种N型多晶硅双面电池制备方法在审
申请号: | 201811172452.2 | 申请日: | 2018-10-09 |
公开(公告)号: | CN109244190A | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
发明(设计)人: | 廖晖;包健;徐冠群;李明;左严严;金浩;张昕宇 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/068 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种N型多晶硅双面电池制备方法,包括:对制绒后的N型硅片进行硼扩散,并去除N型硅片背表面所形成的背面P+层,N型硅片为通过对多晶硅锭的尾部进行切割得到的多晶硅片;对去除背面P+层的N型硅片进行背表面扩散吸杂处理,并去除吸杂层;对去除吸杂层的N型硅片的背表面进行磷扩散;去除N型硅片表面所形成的PSG,在N型硅片的正表面和背表面分别制备钝化层,并在N型硅片的正表面和背表面分别制备电极。本申请公开的上述技术方案,通过吸杂处理以减少由多晶硅锭的尾部所生产出的N型硅片中的杂质,从而提高了对多晶硅锭尾部的利用率和N型多晶硅双面电池的少子寿命,进而提高了N型多晶硅双面电池的转换效率。 | ||
搜索关键词: | 背表面 去除 双面电池 制备 多晶硅锭 吸杂层 正表面 吸杂 背面 多晶硅片 少子寿命 转换效率 钝化层 磷扩散 硼扩散 电极 制绒 切割 扩散 申请 生产 | ||
【主权项】:
1.一种N型多晶硅双面电池制备方法,其特征在于,包括:对制绒后的N型硅片进行硼扩散,并去除所述N型硅片背表面所形成的背面P+层,所述N型硅片为通过对多晶硅锭的尾部进行切割得到的多晶硅片;对去除背面P+层的N型硅片进行背表面扩散吸杂处理,并去除吸杂层;对去除所述吸杂层的N型硅片的背表面进行磷扩散,以制备BSF;去除所述N型硅片表面所形成的PSG,在所述N型硅片的正表面和背表面分别制备钝化层,并在所述N型硅片的正表面和背表面分别制备电极,以得到N型多晶硅双面电池。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司,未经浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811172452.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:丝网印刷机印刷工艺
- 下一篇:一种带半片电池片备用供料装置的划焊一体设备
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的