[发明专利]蒸镀源、蒸镀装置在审
| 申请号： | 201811172998.8 | 申请日： | 2018-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN109023260A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 刘晓云 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸镀源、蒸镀装置，属于显示技术领域，其可解决现有的真空成膜装置的成膜均一性较差的问题。本发明的蒸镀源包括蒸镀本体，其与待进行镀膜的基板相对设置，用于向所述基板表面沉积蒸镀材料，所述蒸镀源还包括：设置在所述蒸镀本体与所述基板之间的治具，所述治具包括多个开口，多个所述开口围绕所述治具的中心区域排布，且沿着远离所述中心区域的方向，所述开口的宽度逐渐增大。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀源 治具 开口 蒸镀装置 中心区域 蒸镀 基板相对设置 真空成膜装置 基板表面 蒸镀材料 逐渐增大 均一性 沉积 成膜 镀膜 基板 排布 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀源，包括：蒸镀本体，其与待进行镀膜的基板相对设置，用于向所述基板表面沉积蒸镀材料，其特征在于，所述蒸镀源还包括：设置在所述蒸镀本体与所述基板之间的治具，所述治具包括多个开口，多个所述开口围绕所述治具的中心区域排布，且沿着远离所述中心区域的方向，所述开口的宽度逐渐增大。
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