[发明专利]抗突波电容器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201811188212.1 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN111048314B 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 吴家钰 申请(专利权)人: 钰冠科技股份有限公司
主分类号: H01G9/00 分类号: H01G9/00;H01G9/028;H01G9/15;H01G9/26
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 张英;沈敬亭
地址: 中国*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开抗突波电容器及其制造方法。所述抗突波电容器的制造方法包括以下步骤:(a)提供电容器基材,并对电容器基材的表面进行腐蚀处理,以形成腐蚀表面;(b)使用第一导电高分子分散液处理腐蚀表面;(c)使用第二导电高分子分散液处理腐蚀表面;其中,步骤(b)及步骤(c)是根据预定先后顺序处理经腐蚀的电容器基材,以在电容器基材上形成导电高分子层;其中,第一导电高分子分散液的浓度与第二导电高分子分散液的浓度相异。本发明的抗突波电容器具有抗突波及降低容衰率的电气特性。本发明另公开一种抗突波电容器。
搜索关键词: 抗突波 电容器 及其 制造 方法
【主权项】:
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