[发明专利]用于在基板上制作像素单元的掩膜结构以及掩膜制作方法

摘要

一种掩膜结构包含掩膜外框、数个平滑遮蔽条、数个突出遮蔽条、数个支撑条与数个金属条。所述突出遮蔽条具有数口突出部。所述金属条具有数个像素形成区。所述平滑遮蔽条与所述突出遮蔽条彼此间隔且横向平行地设置于金属框上。数个遮蔽条纵向且平行地设置于所述平滑遮蔽条与所述突出遮蔽条上。数个金属条设置于所述支撑条上。利用本发明提供的掩膜结构，不需改变金属条上像素形成区的设计，即可形成具有凹口的像素区，以利制作全屏面显示面板。

主权项

1.一种用于在基板上制作像素单元的掩膜结构，其特征在于，所述掩膜结构包括：掩膜外框；数个平滑遮蔽条，纵向设置于所述掩膜外框上，所述平滑遮蔽条彼此平行设置；数个突出遮蔽条，每个所述突出遮蔽条具有数个突出部，纵向设置于所述掩膜外框上，与所述平滑遮蔽条彼此平行间隔设置，每个所述突出遮蔽条的形状及突出部的数量相同；数个支撑条，横向设置于所述平滑遮蔽条以及所述突出遮蔽条上，所述支撑条彼此平行设置，所述支撑条与所述平滑遮敝条及所述突出遮蔽条垂直交错形成数个像素区块；以及数个金属条，设置于所述支撑条上，具有数个像素形成区，其中所述像素形成区的面积大于所述像素区块的面积。