[发明专利]烧结钕铁硼磁体电镀镍铜镍的方法有效
申请号: | 201811208555.X | 申请日: | 2018-10-17 |
公开(公告)号: | CN109137004B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 韩继虎;高政 | 申请(专利权)人: | 天津京磁电子元件制造有限公司 |
主分类号: | C25D3/12 | 分类号: | C25D3/12;C25D3/38;C25D5/14;C25D5/18;C25D5/34;C25D7/00 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 史霞 |
地址: | 301914 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种烧结钕铁硼磁体电镀镍铜镍的方法,包括底层镀镍处理、镀铜处理、及表层镀镍处理,底层镀镍处理包括以下步骤:S1、在硫酸盐镍溶液中使用43~51A的初始冲击电流处理烧结钕铁硼磁体6~10min,然后电流降低至30~40A处理60~80min,其中,硫酸盐镍溶液为:含345~380g/L硫酸镍、45~55g/L氯化镍、55~65g/L硼酸、4ml/L添加剂的水溶液,pH为4~5;在硫酸盐镍溶液中处理烧结钕铁硼磁体的温度为45~55℃。本发明能够明显缩短镀底镍层的时间,减少硫酸盐镍溶液对烧结钕铁硼磁体的腐蚀,增强底镍层与烧结钕铁硼磁体的结合力。 | ||
搜索关键词: | 烧结 钕铁硼 磁体 电镀 镍铜镍 方法 | ||
【主权项】:
1.烧结钕铁硼磁体电镀镍铜镍的方法,包括底层镀镍处理、镀铜处理、及表层镀镍处理,其特征在于,底层镀镍处理包括以下步骤:S1、在硫酸盐镍溶液中使用43~51A的初始冲击电流处理烧结钕铁硼磁体6~10min,然后电流降低至30~40A处理60~80min,其中,硫酸盐镍溶液为:含345~380g/L硫酸镍、45~55g/L氯化镍、55~65g/L硼酸、4ml/L添加剂的水溶液,pH为4~5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津京磁电子元件制造有限公司,未经天津京磁电子元件制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811208555.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。