[发明专利]一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201811211627.6 | 申请日： | 2018-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN109089406A | 公开（公告）日： | 2018-12-25 |
| 发明（设计）人： | 姚艳芳 | 申请（专利权）人： | 吴江友鑫新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215200 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜，包括基材，基材的上侧设有高透光树脂层，在高透光树脂层内部嵌入有多个纳米导磁材料颗粒，还公开了一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜的制备方法，本发明一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜，采用微纳加工的方式制作透明结构基材，并使用凹版印刷的原理在结构内部形成金属网格结构，使其具有高透过型，金属结构具有高耐候性；采用环境友好型生产制造工艺，且制作的金属线条线宽最细可达到1um，具有很好的视觉效果；采用导磁与导电纳米材料相结合的组成方式使可有效提高屏蔽效果，拓宽屏蔽范围；采用多种网格设计与模拟电路吸收阵列相结合，使其具有高效的屏蔽及吸收效果。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁屏蔽膜 透明金属 内陷式 网格 基材 高透光 树脂层 屏蔽 制备 导电纳米材料 金属网格结构 生产制造工艺 环境友好型 凹版印刷 导磁材料 高耐候性 金属结构 金属线条 模拟电路 屏蔽效果 视觉效果 透明结构 网格设计 微纳加工 透过型 导磁 线宽 吸收 制作 嵌入 | ||
【主权项】：
1.一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜，包括基材（1），其特征在于，所述基材（1）的上侧设有高透光树脂层（2），在高透光树脂层（2）内部嵌入有多个纳米导磁材料颗粒（3），在高透光树脂层（2）上均匀排布有多个凹槽，每个凹槽内部由下至上均匀分布有纳米金属导电材料层（4）、纳米金属导磁材料层（5）和黑化纳米材料层（6）。
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