[发明专利]研磨装置有效

专利信息
申请号: 201811241908.6 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN109702641B 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 小林贤一;中西正行;柏木诚;保科真穗 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B24B37/11 分类号: B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B47/20
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 张丽颖
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于,提供一种在基板的背面朝下的状态下,能够有效地对包含最外部的基板的背面整体进行研磨的研磨装置。研磨装置具有:使晶片(W)旋转的基板保持部(10);对晶片(W)的背面进行研磨的研磨头(50);带输送装置(46);以及使研磨头(50)进行平移旋转运动的平移旋转运动机构(60)。基板保持部(10)具有多个辊(11)。多个辊(11)构成为能够以各辊(11)的轴心为中心旋转,并具有能够与晶片(W)的周缘部接触的基板保持面(11a)。研磨头(50)相比于基板保持面(11a)配置在下方,具有对研磨带(31)进行按压的研磨托板(55)、和将研磨托板(55)向上方抬起的加压机构(52)。
搜索关键词: 研磨 装置
【主权项】:
1.一种研磨装置,其特征在于,具有:基板保持部,所述基板保持部保持基板,并使该基板旋转;研磨头,所述研磨头使在表面具有磨粒的研磨带与所述基板的背面接触而对所述基板的背面进行研磨;带输送装置,所述带输送装置将所述研磨带沿所述研磨带的长度方向输送;以及平移旋转运动机构,所述平移旋转运动机构使所述研磨头进行平移旋转运动,所述基板保持部具有多个辊,所述多个辊构成为能够以各辊的轴心为中心旋转,所述多个辊具有能够与所述基板的周缘部接触的基板保持面,所述研磨头相比于所述基板保持面配置在下方,所述研磨头具有将所述研磨带向所述基板的背面按压的研磨托板、和将所述研磨托板向上方抬起的加压机构。
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