[发明专利]气体分布板及包括其的等离子体处理设备在审
| 申请号： | 201811245039.4 | 申请日： | 2018-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN110323116A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 朴赞训;严正焕;朴珍荣;朴皓用;邦晋荣;宣种宇;全尚珍;韩济愚 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 田野;尹淑梅 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种气体分布板和一种包括该气体分布板的等离子体处理设备。所述等离子体处理设备可以包括：支撑件，被构造为接收基底；气体分布板(GDP)，包括面对支撑件的多个喷嘴；主分流器，被构造为供应处理气体；以及附加分流器，被构造为供应加速气体或减速气体。多个喷嘴可以包括多个中心喷嘴、多个外围喷嘴、被构造为喷射处理气体和加速气体的多个中间喷嘴、多个第一喷嘴和多个第二喷嘴。 | ||
| 搜索关键词： | 气体分布板 喷嘴 等离子体处理设备 加速气体 分流器 支撑件 供应处理气体 喷射处理气体 外围喷嘴 中间喷嘴 中心喷嘴 基底 减速 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理设备，所述等离子体处理设备包括：支撑件，被构造为接收基底；气体分布板，包括面对所述支撑件的多个喷嘴；主分流器，连接到所述气体分布板，并被构造为供应处理气体；以及附加分流器，连接到所述气体分布板，并被构造为选择性地供应用于增加所述处理气体的等离子体密度的加速气体或用于降低所述处理气体的所述等离子体密度的减速气体，其中，所述多个喷嘴包括：多个中心喷嘴，与所述气体分布板的中心邻近，并连接到所述主分流器；多个外围喷嘴，与所述气体分布板的最外围部分邻近，并连接到所述主分流器；多个中间喷嘴，连接到所述主分流器和所述附加分流器，被构造为喷射所述处理气体和所述加速气体，并与在所述气体分布板的所述中心和所述多个外围喷嘴之间的中间点邻近；多个第一喷嘴，位于所述多个中心喷嘴与所述多个中间喷嘴之间，并连接到所述主分流器；以及多个第二喷嘴，位于所述多个中间喷嘴与所述多个外围喷嘴之间，并连接到所述主分流器。
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