[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201811248184.8 申请日: 2014-09-04
公开(公告)号: CN109390326B 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 栗田洋一郎;江泽弘和;河崎一茂;筑山慧至 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L21/98
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种低成本且可靠性高的半导体装置以及其制造方法。第1树脂层设置在上层芯片的第1面。第1布线层设置在第1树脂层中,与上层芯片电连接。第2树脂层设置在第1树脂层的表面侧,并且扩展到比上层芯片的侧面靠外侧的芯片外区域。第2布线层设置在第2树脂层中,与第1布线层连接,延伸到芯片外区域。下层芯片安装在第1树脂层的表面侧,与第1布线层连接。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,其中,具备:上层芯片,具有第1面和上述第1面的相反侧的第2面;第1树脂层,设置在上述上层芯片的上述第1面;第1布线层,设置在上述第1树脂层中,与上述上层芯片电连接;第2树脂层,设置在上述第1树脂层的表面侧,并扩展到比上述上层芯片的侧面靠外侧的芯片外区域;第2布线层,设置在上述第2树脂层中,与上述第1布线层连接,并延伸到上述芯片外区域;下层芯片,安装在上述第1树脂层的上述表面侧,与上述第1布线层连接;以及封固树脂,将上述上层芯片覆盖,上述上层芯片具有多个存储器芯片的层叠体,上述多个存储器芯片具有第1芯片、第2芯片及第3芯片,上述第1芯片具备:第1半导体层,具有第1电路面和上述第1电路面的相反侧的第1背面;第1片上布线层,设置在上述第1电路面;第1接合金属,与上述第1片上布线层连接;以及第1贯通电极,贯通上述第1半导体层地设置,与上述第1片上布线层连接;上述第2芯片具有:第2半导体层,具有与上述第1芯片的上述第1片上布线层对置的第2电路面和上述第2电路面的相反侧的第2背面;第2片上布线层,设置在上述第2电路面;第2接合金属,与上述第2片上布线层连接;以及第2贯通电极,贯通上述第2半导体层地设置,与上述第2片上布线层连接;上述第3芯片具有:第3半导体层,具有第3电路面和位于上述第3电路面的相反侧且与上述第2芯片对置的第3背面;第3片上布线层,设置在上述第3电路面;以及第3贯通电极,贯通上述第3半导体层地设置,与上述第3片上布线层连接,上述半导体装置中,使上述第1片上布线层和上述第2片上布线层对置而使上述第1芯片的上述第1接合金属和上述第2芯片的上述第2接合金属彼此接合,使上述第2背面和上述第3背面对置而使上述第2芯片的上述第2贯通电极和上述第3芯片的上述第3贯通电极彼此经由凸点连接。
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