[发明专利]基板制造装置及基板制造方法有效

专利信息
申请号: 201811248191.8 申请日: 2012-07-17
公开(公告)号: CN110099513B 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 中森靖仁;礒圭二;冈本裕司 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;B05D3/06
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种基板制造装置及基板制造方法。本发明的基板制造装置,在第1涂布站中,对底层基板的单面涂布液状薄膜材料,并对涂布于底层基板的薄膜材料照射光来固化薄膜材料的表层部。在第1涂布站中被涂布薄膜材料的底层基板搬入到反转站。在反转站对涂布于底层基板的薄膜材料照射光来使薄膜材料固化至其内部,并且使底层基板的背面和表面反转。搬送装置在第1涂布站与反转站之间搬送底层基板。控制装置控制第1涂布站、反转站及搬送装置。控制装置控制搬送装置将在第1涂布站中经处理的底层基板搬送到反转站。
搜索关键词: 制造 装置 方法
【主权项】:
1.一种基板制造装置,其中,具有:第1涂布站或第2涂布站,对底层基板的单面涂布液状薄膜材料并对涂布于所述底层基板的薄膜材料照射光来使薄膜材料的表层部固化;反转站,搬入在第1涂布站或第2涂布站被涂布有薄膜材料的底层基板,对涂布于底层基板的薄膜材料照射光来使薄膜材料固化至薄膜材料的内部,并且使所述底层基板的背面和表面反转;及控制装置,决定使用所述第1涂布站、所述第2涂布站及所述反转站中的哪一个对底层基板进行处理。
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