[发明专利]对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置在审
申请号: | 201811260929.2 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN109535468A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 路如旃;苏红宏 | 申请(专利权)人: | 浙江清华柔性电子技术研究院 |
主分类号: | C08J7/12 | 分类号: | C08J7/12;C08L83/04;G02B5/22 |
代理公司: | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人: | 舒丁 |
地址: | 314006 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置,所述对光源进行处理的装置包括光源、壳体、液态介质和反射罩,所述壳体的至少一侧为透光材质且作为出光面;所述反射罩设置于所述出光的相对侧;所述光源设置于所述反射罩和出光面之间;所述壳体中至少在所述光源与所述出光面之间灌注有液态介质。上述对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置将光源放入液态介质中,对光源发出的光线进行选择性的吸收或透过,使有效光线大量透过,提高了有效光线的密度,且液态介质能够吸收光源产生的热量,降低硅胶片处理时表面的温度,同时采用了反射罩,将射向无效方向的光线反射回有效方向,提高了光线的利用率。 | ||
搜索关键词: | 光源 液态介质 反射罩 处理装置 发光装置 硅胶表面 出光面 壳体 有效光线 光线反射 光源产生 光源设置 透光材质 有效方向 硅胶片 放入 吸收 灌注 | ||
【主权项】:
1.一种对光源进行处理的装置,其特征在于,所述对光源进行处理的装置包括壳体、液态介质,其中:所述壳体包括出光面;所述光源与所述出光面之间有液态介质;所述光源发出的光通过液态介质选择性的吸收或透过后从出光面透出。
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