[发明专利]一种陶瓷清洁石及其制备方法在审
| 申请号： | 201811271157.2 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN109317430A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 贺照纲 | 申请（专利权）人： | 鋐源光电科技（厦门）有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B24B1/00;B28D1/00;C04B35/10;C04B35/581 |
| 代理公司： | 厦门加减专利代理事务所(普通合伙) 35234 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 361100 福建省厦门市火*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明提供一种陶瓷清洁石及其制备方法，其中，陶瓷清洁石，包括清洁石本体；清洁石本体由三氧化二铝或氮化铝烧结而成；清洁石本体设有抛光面；抛光面的平坦度在1μm、粗糙度在0.1μm以下。通过本发明提供的陶瓷清洁石对陶瓷压合座表面进行清理，减少刮划，提高陶瓷压合座的使用寿命；另外，通过烧结制备而成的清洁石本体，强度高，使用寿命长，具有良好的市场前景。本发明提供的陶瓷清洁石的制备方法，工艺简洁，制备出的清洁石本体能够对陶瓷压合座表面上的残胶进行有效的清除并且不会造成刮伤及破坏。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 陶瓷 制备 压合座 使用寿命 烧结 三氧化二铝 抛光 粗糙度 氮化铝 抛光面 平坦度 残胶 刮伤 | ||
【主权项】：
1.一种陶瓷清洁石，其特征在于：包括清洁石本体(10)；所述清洁石本体(10)由三氧化二铝或氮化铝烧结而成；所述清洁石本体(10)设有抛光面(11)；所述抛光面(11)的平坦度在1μm、粗糙度在0.1μm以下。
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