[发明专利]基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置及制备方法在审

专利信息
申请号: 201811273697.4 申请日: 2018-10-30
公开(公告)号: CN109055915A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 朱权;李象远;王健礼 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34;C23C16/46;C23C16/52;C23C16/04
代理公司: 成都瑞创华盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51270 代理人: 邓瑞;辜强
地址: 610065 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置及制备方法,该装置包括供气系统、Ti源系统和沉积系统,所述供气系统提供稀释气、载气和氮气,所述沉积系统包括预热段、反应段,所述预热段、反应段均通过电流进行加热,所述供气系统的出气端与Ti源系统的进气端连接,所述Ti源系统的出气端与预热段的进气端连接,预热段的出气端与反应段的进气端连接。本发明实现了长程微通道单内壁沉积;且在沉积过程中:能耗比较低,成膜速度快,涂层纯度高,涂层表面均匀致密;而且整个装置占用空间比较小。
搜索关键词: 预热段 供气系统 出气端 反应段 进气端 化学气相沉积装置 沉积系统 电流加热 沉积 制备 氮气 装置占用空间 均匀致密 涂层表面 单内壁 微通道 稀释气 长程 成膜 载气 加热 能耗
【主权项】:
1.一种基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,该装置包括供气系统、Ti源系统和沉积系统,所述供气系统提供稀释气、载气和氮气,所述沉积系统包括预热段、反应段,所述预热段、反应段均通过电流进行加热,所述供气系统的出气端与Ti源系统的进气端连接,所述Ti源系统的出气端与预热段的进气端连接,预热段的出气端与反应段的进气端连接。
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