[发明专利]基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置及制备方法在审
申请号: | 201811273697.4 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109055915A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 朱权;李象远;王健礼 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/46;C23C16/52;C23C16/04 |
代理公司: | 成都瑞创华盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51270 | 代理人: | 邓瑞;辜强 |
地址: | 610065 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置及制备方法,该装置包括供气系统、Ti源系统和沉积系统,所述供气系统提供稀释气、载气和氮气,所述沉积系统包括预热段、反应段,所述预热段、反应段均通过电流进行加热,所述供气系统的出气端与Ti源系统的进气端连接,所述Ti源系统的出气端与预热段的进气端连接,预热段的出气端与反应段的进气端连接。本发明实现了长程微通道单内壁沉积;且在沉积过程中:能耗比较低,成膜速度快,涂层纯度高,涂层表面均匀致密;而且整个装置占用空间比较小。 | ||
搜索关键词: | 预热段 供气系统 出气端 反应段 进气端 化学气相沉积装置 沉积系统 电流加热 沉积 制备 氮气 装置占用空间 均匀致密 涂层表面 单内壁 微通道 稀释气 长程 成膜 载气 加热 能耗 | ||
【主权项】:
1.一种基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,该装置包括供气系统、Ti源系统和沉积系统,所述供气系统提供稀释气、载气和氮气,所述沉积系统包括预热段、反应段,所述预热段、反应段均通过电流进行加热,所述供气系统的出气端与Ti源系统的进气端连接,所述Ti源系统的出气端与预热段的进气端连接,预热段的出气端与反应段的进气端连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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