[发明专利]等离子体发生器及等离子体清洗装置在审
| 申请号： | 201811279845.3 | 申请日： | 2018-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN109365411A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 王永青 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B5/04 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一等离子体发生器和应用该等离子体发生器的等离子体清洗装置，用于处理一待处理表面。所述等离子体发生器包括至少一等离子体喷管组件，所述等离子体喷管组件包括复数个等离子体喷管和一公共流道。每一等离子体喷管具有一进气端和一出口端；其中，每一所述等离子体喷管通过所述进气端与所述公共流道流体连接，且每一所述等离子体喷管在所述公共流道上均匀排列；并且，每一所述等离子体喷管的所述出口端面朝所述待处理表面，并且，每一述等离子体发生器的所述出口端与所述待处理表面之间的距离相等。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体喷管 等离子体发生器 待处理表面 等离子体清洗装置 公共流道 出口端 进气端 出口端面 距离相等 均匀排列 流体连接 组件包括 复数 应用 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体发生器，用于处理一待处理表面，其特征在于，所述等离子体发生器包括至少一等离子体喷管组件，所述等离子体喷管组件包括复数个等离子体喷管和一公共流道；其中，每一等离子体喷管具有一进气端和一出口端；每一所述等离子体喷管通过所述进气端与所述公共流道流体连接，且每一所述等离子体喷管在所述公共流道上均匀排列；并且，每一所述等离子体喷管的所述出口端面朝所述待处理表面，并且，每一述等离子体发生器的所述出口端与所述待处理表面之间的距离相等。
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