[发明专利]一种正性光刻胶去胶清洗组合物及其应用有效
| 申请号： | 201811298251.7 | 申请日： | 2018-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN109164686B | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 李森虎;承明忠;朱龙;邵勇;顾玲燕;陈林;殷福华;赵文虎;姚玮 | 申请（专利权）人： | 江阴江化微电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 无锡坚恒专利代理事务所(普通合伙) 32348 | 代理人： | 杜兴 |
| 地址： | 214400 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种正性光刻胶去胶清洗组合物，主要组分包括季铵类氢氧化物、水溶性链烷醇胺、水溶性有机极性溶剂和具有环己基的酯类化合物。正性光刻胶去胶清洗组合物中含有具有环己基的酯类化合物，该酯类化合物在碱性有机相中性能稳定，季铵类氢氧化物在水洗液中电离生成氢氧根离子，水洗液呈碱性，具有环己基的酯类化合物碱性条件下水解生成酸和醇并保持反应平衡，酸能快速中和碱液中的氢氧根离子，改善水洗工序对于晶圆表面金属层的腐蚀程度。本发明还公开了正性光刻胶去胶清洗组合物在基板光刻胶剥离工艺中的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 胶去胶 清洗 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种正性光刻胶去胶清洗组合物，其特征在于，主要组分包括季铵类氢氧化物、水溶性链烷醇胺、水溶性有机极性溶剂和具有环己基的酯类化合物。
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