[发明专利]超薄电磁屏蔽片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811304779.0 申请日: 2018-11-05
公开(公告)号: CN109328011B 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 顾正青;朱强;计建荣 申请(专利权)人: 苏州世诺新材料科技有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;C09J7/29
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请公开了一种超薄电磁屏蔽片及其制备方法,该电磁屏蔽片包括至少一层磁屏蔽层、保护膜、双面胶层和离型膜层,制备方法包括碎片制备与处理、铺摊镶嵌辊压、贴合辊压等步骤。本申请所公开的超薄电磁屏蔽片在制备过程中对不需要完整的带材,在满足电磁屏蔽的条件下可实现电磁屏蔽片的超薄化。
搜索关键词: 电磁屏蔽片 制备 磁屏蔽层 电磁屏蔽 离型膜层 双面胶层 制备过程 保护膜 超薄化 贴合辊 带材 辊压 申请 镶嵌
【主权项】:
1.一种超薄电磁屏蔽片的制备方法,其特征在于,包括:S1:对磁性片进行热处理、破碎、表面绝缘处理的步骤;S2:将S1中磁性片碎片作为第二磁性片碎片非连续铺摊在双面胶一面并辊压使其镶嵌在粘结层中、并使双面胶粘结层中的粘结剂填充第二磁性片碎片之间的缝隙且与第二磁性片碎片高度一致的步骤,由此形成带有第二磁性片碎片层的双面胶;S3:将S1中磁性片碎片作为第一磁性片碎片粘结在上述S2中第二磁性片碎片之间的粘结剂的步骤,由此形成在同一面具有第二磁性片碎片层和第一磁性片碎片层的双面胶;S4:在S3中第一磁性片碎片另一面粘结保护膜并进行辊压、使保护膜粘结层中的粘结剂填充第一磁性片碎片之间的缝隙且与镶嵌在双面胶粘结层中的第二磁性片碎片相粘结的步骤;所得超薄电磁屏蔽片中第一磁性片碎片层和第二磁性片碎片层为在保护膜层方向上分别非连续铺摊镶嵌在与之相邻的粘结层中,且碎片之间填充有该粘结层中的粘结剂;当第一磁性片碎片层与第二磁性片碎片层叠合时,填充于一层碎片之间的粘结剂与另一层中的碎片粘结,第一磁性片碎片层和第二磁性片碎片层共同完整覆盖整个电磁屏蔽片。
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