[发明专利]减反阵列基板的制备方法及其制备的减反阵列基板有效
| 申请号： | 201811316656.9 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN109656099B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 张霞;刘刚 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请实施方式所提供的减反阵列基板的制备方法，包括：提供一衬底基板；配置一光阻溶液，所述光阻溶液包括丙烯酸酯金属前驱体、丙烯酸类树脂、光起始剂、溶剂和助剂；将光阻溶液涂布于所述衬底基板上形成一光阻层；采用黄光制程对所述光阻层进行处理，形成一图案化结构；对所述图案化结构进行热处理以形成一减反导电结构，从而得到包括所述衬底基板和所述减反导电结构的所述减反阵列基板，所述减反导电结构作为减反阵列基板的信号线，从而避免了现有技术中的金属信号线对光线的反射，进而形成了具有减少光线反射的阵列基板。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 制备 方法 及其 | ||
【主权项】：
1.一种减反阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：提供一衬底基板；配置一光阻溶液，所述光阻溶液包括丙烯酸酯金属前驱体、丙烯酸类树脂、光起始剂、溶剂和助剂，所述丙烯酸酯金属前驱体、丙烯酸类树脂、光起始剂、溶剂和助剂的质量百分比为：丙烯酸酯金属前驱体1％‑30％，丙烯酸类树脂1％‑40％、光起始剂0.5％‑20％、溶剂20％‑90％和助剂0％‑5％；将光阻溶液涂布于所述衬底基板上形成一光阻层；采用黄光制程对所述光阻层进行处理，形成一图案化结构；对所述图案化结构进行热处理形成一减反导电结构，从而得到所述减反阵列基板。
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