[发明专利]黄光制程曝光偏移校正方法及装置在审
| 申请号： | 201811322061.4 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN109324486A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 李彬 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种黄光制程曝光偏移校正方法，包括以下步骤：测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。本发明还公开一种黄光制程曝光偏移校正装置。本发明的技术方案中，当曝光的图像产生位置偏移，造成产品异常时，曝光机可以及时反应，立即回馈校正，避免异常发生，可以实时监控曝光机的工作状况，保证产品品质，并提升曝光机的工作时间，防止后制程频发暂停影响机台嫁动，减少工程师值班时间。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光机 黄光制程 曝光偏移 位置数据 校正 标准位置 基板相对 光罩 机台 图像产生位置 产品品质 工作状况 获得位置 偏移校正 实时监控 数据计算 校正装置 异常发生 偏移 回馈 基板 制程 测量 工程师 曝光 保证 | ||
【主权项】：
1.一种黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，包括以下步骤：测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。
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