[发明专利]光罩防护膜结构及光罩在审
| 申请号： | 201811346995.1 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109270789A | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 方红;姜鹏 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 一种光罩防护膜结构及光罩，其中所述光罩防护膜结构，包括保护膜；环形框架，所述环形框架用于支撑和固定所述保护膜，所述环形框架中具有贯穿环形框架的开口，所述开口中填充满若干具有贯穿孔的过滤膜。本发明的光罩防护膜结构的变形量较小或不会发生变形。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 环形框架 防护膜 保护膜 开口 变形量 贯穿孔 过滤膜 变形 贯穿 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种光罩防护膜结构，其特征在于，包括：保护膜；环形框架，所述环形框架用于支撑和固定所述保护膜，所述环形框架中具有贯穿环形框架的开口，所述开口中填充满若干具有贯穿孔的过滤膜。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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