[发明专利]一种光刻胶及光刻胶图案的制作方法在审
| 申请号： | 201811351459.0 | 申请日： | 2018-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN109270791A | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 刘明;左岳平;孟秋华;王纯阳;方飞 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种光刻胶及光刻胶图案的制作方法，涉及光刻胶技术领域，能够解决相关技术中由于光刻胶顶部与底部接受光照量不同而造成的光刻胶坡度角较小，进而造成Mask CD与FICD之间存在较大误差的问题。所述光刻胶包括多个感光单元，每个感光单元均具有磁性。本发明用于光刻胶图案的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 光刻胶图案 感光单元 制作 光刻胶技术 大误差 光照量 坡度角 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶，其特征在于，包括：多个感光单元，每个所述感光单元均具有磁性。
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