[发明专利]一种半导体器件的终端结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811356122.9 申请日: 2018-11-15
公开(公告)号: CN109346512A 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 刘锋;周祥瑞;殷允超 申请(专利权)人: 江苏捷捷微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良
地址: 226200 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种半导体器件的终端结构及其制造方法,在终端保护区,第一导电类型漂移区内设有若干个环间距相同的场限环,且从有源区指向终端区的方向上,第一个场限环和最后一个场限环为连续场限环,连续场限环间设置有若干个间隔场限环,间隔场限环由若干个间隔分布的场限环注入区包围呈环形,且若干个间隔场限环、间隔场限环与连续场限环均连成一片,形成以场限环注入区为中心的浓度渐变梯度;本发明器件制造方法与现有半导体工艺兼容,不仅能提高器件的耐压能力,且能减小终端的宽度,增大有源区的面积,进而降低器件导通电阻。
搜索关键词: 场限环 连续场 半导体器件 终端结构 注入区 源区 制造 第一导电类型 半导体工艺 终端保护区 漂移 导通电阻 发明器件 间隔分布 渐变梯度 降低器件 耐压能力 终端区 减小 兼容 指向 终端 包围
【主权项】:
1.一种半导体器件的终端结构,包括终端保护区,所述终端保护区环绕在元胞区的周围,所述终端保护区包括半导体基板,所述半导体基板包括第一导电类型衬底(1)及位于第一导电类型衬底(1)上的第一导电类型漂移区(2),其特征在于,在终端保护区,所述第一导电类型漂移区(2)内设有若干个环间距相同的场限环,且从有源区指向终端区的方向上,第一个场限环和最后一个场限环为连续场限环(3),连续场限环(3)间设置有若干个间隔场限环(4),所述间隔场限环(4)由若干个间隔分布的场限环注入区(5)包围呈环形,且若干个间隔场限环(4)、间隔场限环(4)与连续场限环(3)均连成一片,形成以场限环注入区(5)为中心的浓度渐变梯度。
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