[发明专利]一种基质辅助激光解析质谱大批量上样装置

摘要

本发明涉及一种基质辅助激光解析质谱大批量上样装置。该上样装置包括可伸缩支架、上样孔道板、样品刮板和样品压板组成。可伸缩支架可调节大小以适应各种不同规格的靶板，调节高度以控制上样孔道板及靶板的距离。上样孔道板上孔道阵列与靶点阵列一致。用样品刮板将倾倒在上样孔道板上的待测样品简单快速的平均分配到各个孔道中，再使用样品压板使孔道中的样品在外加压力的作用下，同时上样至靶点上。该装置可实现基质辅助激光解析质谱的大批量同时上样，缩短点靶及等待结晶的时间，提高质谱检测效率。

主权项

1.一种基质辅助激光解析质谱大批量上样装置，由可伸缩支架（1）、上样孔道板（2）、样品刮板（3）以及样品压板（4）组成，其特征在于：可伸缩支架（1）的四个边通过手动拉伸的方式调整长度，保证其与所用靶板尺寸一致；可伸缩支架（1）的四个角分别设有一个高度可以调节的四角支柱（5），四角支柱（5）上设有平面凸台（6），平面凸台（6）可以随四角支柱（5）的高度调节在竖直方向上移动；上样孔道板（2）由平面凹槽（8）和在平面凹槽（8）上阵列分布的孔道（7）组成，其中，孔道（7） 从上样孔道板（2）表面贯穿至底部，孔道（7）的阵列分布与所用靶板上的靶点阵列分布一致；样品压板（4）上均匀分布着与孔道（7）阵列相对应的柱形凸出（9），柱形凸出（9）与孔道（7）的阵列分布及与孔道（7）的形状一致，且柱形凸出（9）高度比孔道（7）深度长0.01‑ 50 mm；样品刮板（3）的截面为三角形。