[发明专利]等离子体处理装置、温度控制方法以及存储介质有效
申请号: | 201811366280.2 | 申请日: | 2018-11-16 |
公开(公告)号: | CN109801828B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 冈信介 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种等离子体处理装置、温度控制方法以及存储介质。加热器控制部控制向加热器供给的供给电力,以使加热器成为所设定的设定温度。测量部测量等离子体没有点火的未点火状态和在等离子体点火之后向加热器供给的供给电力下降的过渡状态下的供给电力。参数计算部将来自等离子体的输入热量以及晶圆与加热器之间的热阻设为参数,使用由测量部测量出的未点火状态和过渡状态的供给电力对计算过渡状态的供给电力的计算模型进行拟合,来计算输入热量和所述热阻。设定温度计算部使用由参数计算部计算出的输入热量和热阻,来计算使晶圆成为目标温度的加热器的设定温度。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 温度 控制 方法 以及 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置,具有:载置台,其设置有加热器,所述加热器能够对用于载置作为等离子体处理的对象的被处理体的载置面的温度进行调整;加热器控制部,其控制向所述加热器供给的供给电力,以使所述加热器成为所设定的设定温度;测量部,由所述加热器控制部控制向所述加热器供给的供给电力以使所述加热器的温度为固定,所述测量部测量等离子体没有点火的未点火状态和在等离子体点火之后向所述加热器供给的供给电力下降的过渡状态下的供给电力;参数计算部,其将来自等离子体的输入热量以及被处理体与所述加热器间的热阻设为参数,使用由所述测量部测量出的未点火状态和过渡状态的供给电力对计算所述过渡状态的供给电力的计算模型进行拟合,来计算所述输入热量和所述热阻;以及设定温度计算部,其使用由所述参数计算部计算出的所述输入热量和所述热阻,来计算使被处理体成为目标温度的所述加热器的设定温度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811366280.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:等离子体处理装置
- 下一篇:一种腔体、工艺机台的处理方法及侧墙工艺方法