[发明专利]拼接式压印模板及其制备方法和母模板有效

专利信息
申请号: 201811376982.9 申请日: 2018-11-19
公开(公告)号: CN109240041B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 谭伟;郭康;谷新;张笑 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 汪源;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种拼接式压印模板的制备方法,该拼接式压印模板包括:相邻的第一拼接区域和第二拼接区域,制备方法包括:在衬底基板上的第一拼接区域内形成第一拼接压印图形;在第一拼接压印图形背向衬底基板的一侧表面形成牺牲层;在衬底基板上的第二拼接区域内形成第二模板胶;采用预定母模板对位于第二拼接区域内的第二模板胶进行图案化,部分第二模板胶溢出至牺牲层背向衬底基板的一侧;对第二模板胶进行固化和脱模;通过特定除膜工艺去除牺牲层,位于牺牲层背向衬底基板的一侧的第二模板胶脱落,位于第二拼接区域的第二模板胶构成第二拼接压印图形。本公开还提供了一种拼接式压印模板和母模板。
搜索关键词: 拼接 压印 模板 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种拼接式压印模板的制备方法,其特征在于,所述拼接式压印模板包括:相邻的第一拼接区域和第二拼接区域,所述制备方法包括:在衬底基板上的所述第一拼接区域内形成第一拼接压印图形;在所述第一拼接压印图形背向所述衬底基板的一侧表面形成牺牲层,所述牺牲层至少覆盖所述第一拼接区域内且靠近所述第二拼接区域的预定溢胶区域,所述牺牲层、所述第一拼接压印图形和后续待形成的第二拼接压印图形被配置为:在特定除膜工艺下,所述牺牲层被去除,而所述第一拼接压印图形和所述第二拼接压印图形保留;在所述衬底基板上的所述第二拼接区域内形成第二模板胶;采用预定母模板对位于所述第二拼接区域内的所述第二模板胶进行图案化,部分所述第二模板胶溢出至所述牺牲层背向所述衬底基板的一侧;对所述第二模板胶进行固化和脱模;通过所述特定除膜工艺去除所述牺牲层,位于牺牲层背向所述衬底基板一侧的所述第二模板胶脱落,位于所述第二拼接区域的所述第二模板胶构成所述第二拼接压印图形。
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