[发明专利]一种基于多孔材料为模板制备分子印记聚合物的方法

摘要

本发明公开了一种以可逆加成‑断裂链转移聚合所得多孔材料为模板制备分子印记聚合物的制备方法。以可逆加成‑断裂链转移聚合高内相乳液制备的多孔材料为模板，再与功能单体、交联剂、模板分子相互反应，制得最终产物。步骤如下：以苯乙烯和二乙烯基苯做油相，水做水相，搅拌成乳液。以可逆加成‑断裂链转移聚合的方式制备多孔材料。再将制备出的多孔材料作为模板制备分子印迹聚合物，经测试该方法制备出的分子印迹聚合物其物质吸收率较其他方法有一定程度的提升，且不用繁琐复杂的后处理，在药物提取，环境治理等方面有很大的潜在应用价值。

主权项

1.一种以可逆加成‑断裂链转移所得多孔材料为模板制备分子印记聚合物的制备方法，其特征在于适用广泛，后处理简单，单位表面积上的识别位点远多于本体聚合的分子印迹聚合物，主要包括如下步骤：将少量无机盐溶解在蒸馏水中作为水相，将乳化剂、引发剂、可逆加成‑断裂链转移试剂溶于有机试剂中作为油相；分别进行除氧操作，控制不同的水油比例制备高内相乳液；在磁力搅拌条件下，形成稳定的乳液，在一定温度下反应24小时，用淋洗溶剂进行淋洗去除各种未反应的物质和乳化剂；将所制得的多孔材料切成小块，与制备分子印记聚合物所需要的材料放置在一个烧瓶中，进行除氧操作，在65摄氏度反应24 小时再用特定淋洗溶剂去除印迹分子；根据印迹分子的不同采取不同溶质的溶剂进行吸收测试，用紫外分光光度计测试其性能；所说的少量无机盐为氯化钠，浓度为0.02 摩尔每升；所说的有机溶剂是苯乙烯和二乙烯基苯的混合物；所说的乳化剂、引发剂、可逆加成‑断裂链转移试剂分别指司班80、偶氮二异丁氰、2‑氰丙基‑2‑基苯并二硫；所说的淋洗溶剂是指甲醇/乙酸（9:1，甲醇体积/乙酸体积）。