[发明专利]IQC设备及金属掩膜片的展平方法有效
| 申请号： | 201811393833.3 | 申请日： | 2018-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN109848278B | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 刘志乔 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B21D26/14 | 分类号： | B21D26/14;B21D1/00;G01B11/00;G01N21/95 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种IQC设备及金属掩膜片的展平方法。该IQC设备包括载台以及设于所述载台下方的展平单元；所述载台用于承载金属掩膜片；该金属掩膜片在载台上沿水平方向或沿竖直方向卷曲；所述展平单元用于通过磁力将金属掩膜片卷曲的部分向靠近载台的方向吸附，以展平金属掩膜片，达到自然展平金属掩膜片的目的，且适用于卷曲程度不同的多个金属掩膜片，后续可以精确量测金属掩膜片入料的尺寸精度，提高入料检测品质管理准确度，还可以将相同尺寸精度的金属掩膜片统一张网，实现分类张网，可以提升金属掩膜片张网后的像素位置精度至少1um，从而降低OLED产品的子像素间距，提升产品竞争力。 | ||
| 搜索关键词： | iqc 设备 金属 膜片 平方 | ||
【主权项】：
1.一种IQC设备，其特征在于，包括：载台(10)以及设于所述载台(10)下方的展平单元(20)；所述载台(10)用于承载金属掩膜片(30)；该金属掩膜片(30)在载台(10)上沿水平方向或沿竖直方向卷曲；所述展平单元(20)用于通过磁力将金属掩膜片(30)卷曲的部分向靠近载台(10)的方向吸附，以展平金属掩膜片(30)。
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