[发明专利]显示面板及其制作方法

摘要

本发明公开一种显示面板及其制作方法，所述显示面板包括一玻璃基板、一遮光金属层、一缓冲层、一半导体层、一栅极绝缘层、一栅极层、一层间介电层及一源漏极接触层，利用对应所述玻璃基板的第一区块的所述遮光金属层、所述缓冲层及所述半导体层组成一存储电容，能够将所述存储电容的感应电荷传递出去，以改善薄膜晶体管的电性。

主权项

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于：所述制作方法包括步骤：一半导体层形成步骤，在一玻璃基板上沉积一遮光金属层，又在所述遮光金属层上沉积一缓冲层，接着在所述缓冲层上沉积一半导体层；一光阻形成步骤，在所述半导体层形成一光阻，并对所述光阻曝光，使所述光阻形成一第一光阻层、一第二光阻层及一缺口，其中所述第一光阻层位于所述玻璃基板的一第一区块，所述第二光阻层位于所述玻璃基板的一第二区块，所述缺口的底部露出有所述半导体层；一缺口蚀刻步骤，在所述缺口中，依序对所述半导体层、所述缓冲层及所述遮光金属层进行蚀刻，使所述缺口的底部露出有所述玻璃基板；一第二光阻层蚀刻步骤，对所述第二光阻层进行蚀刻，使得所述第二光阻层形成二凹陷，其中所述二凹陷的底部露出有所述半导体层；一凹陷蚀刻步骤，对所述二凹陷的底部露出的所述半导体层进行蚀刻，使所述二凹陷的底部露出有所述缓冲层；一光阻去除步骤，将所述第一光阻层及所述第二光阻层去除，使得对应所述第二区块的所述半导体层位于所述二凹陷之间，对应所述第一区块的所述半导体层位于所述缺口的一侧；一栅极层形成步骤，依次沉积一栅极绝缘层及一第一金属层，并图案化所述第一金属层作为一栅极层，接将着一层间介电层沉积在所述栅极层上，并且通过蚀刻在所述层间介电层形成到达所述半导体层及所述遮光金属层的多个沟槽；及一源漏极接触层形成步骤，在所述沟槽沉积一第二金属层，并图案化所述第二金属层作为一源漏极接触层。