[发明专利]相似版图判断方法在审
| 申请号： | 201811396599.X | 申请日： | 2018-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN109460623A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 吴青;陈翰;张辰明;孟鸿林 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G06K9/62 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 焦天雷 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种相似版图判断方法，包括：以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。本发明通过识别必要子区域的必要图形标识能够避免非必要子区域中非必要图形对相似图形判断的影响，进而提高相似图形识别准确率，并提高相似图形识别效率。 | ||
| 搜索关键词： | 子区域 图形标识 版图区域 版图图形 分析 预设 矩阵 图形识别 版图几何中心 图形判断 准确率 | ||
【主权项】：
1.一种相似版图判断方法，用于OPC工艺之前的相似版图分析，其特征在于，包括以下步骤：1)以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；2)将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；3)将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；4)对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；5)将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；6)若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。
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