[发明专利]针对金属层工艺热点的亚分辨率辅助图形设置方法有效
申请号: | 201811396619.3 | 申请日: | 2018-11-22 |
公开(公告)号: | CN109459910B | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 赵璇;王丹;于世瑞 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F1/38;H01L27/02 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 栾美洁 |
地址: | 201315 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种针对金属层工艺热点的亚分辨率辅助图形设置方法,包括以下步骤:筛选出金属层工艺热点的金属边区域;对筛选出的金属边生成标记;对金属层版图进行常规的规则式光学临近效应修正;判断被标记的金属边的邻边的长度,根据不同的邻边长度优化亚分辨率辅助图形的参数。本发明针对金属层中工艺窗口较小的工艺热点进行优化,添加亚分辨率辅助图形并对其参数进行优化,能够有效地增大工艺窗口,避免工艺窗口较小导致的金属线短路问题,降低工艺风险,提升产品良率。 | ||
搜索关键词: | 针对 金属 工艺 热点 分辨率 辅助 图形 设置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种针对金属层工艺热点的亚分辨率辅助图形设置方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,筛选出金属层工艺热点的金属边区域;步骤2,对筛选出的金属边生成标记;步骤3,对金属层版图进行常规的规则式光学临近效应修正;步骤4,判断被标记的金属边的邻边的长度,根据不同的邻边长度优化亚分辨率辅助图形的参数,并添加优化后的亚分辨率辅助图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司,未经上海华力集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811396619.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种带标记功能的投影屏幕
- 下一篇:一种提高OPC模型精度的方法
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备