[发明专利]一种配向膜制备方法在审
| 申请号： | 201811401667.7 | 申请日： | 2018-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN109283749A | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 刘康康 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 215634 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种配向膜制备方法，该方法包括在衬底上涂覆光刻胶形成光刻胶层，采用激光束照射光刻胶层，并控制激光束的束斑沿预设方向扫描，以使光刻胶层的曝光位置呈线条阵列，对光刻胶层进行显影，形成配向膜沟槽阵列结构，其中，激光束包括第一激光束和第二激光束，第一激光束的束斑与第二激光束的束斑聚焦于同一焦点。本发明实施例提供的技术方案可以提高配向膜良品率，降低配向膜制备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 激光束 配向膜 光刻胶层 束斑 制备 激光束照射 方向扫描 沟槽阵列 曝光位置 线条阵列 光刻胶 刻胶层 良品率 衬底 涂覆 显影 预设 聚焦 焦点 | ||
【主权项】：
1.一种配向膜制备方法，其特征在于，包括：在衬底上涂覆光刻胶形成光刻胶层；采用激光束照射所述光刻胶层，并控制所述激光束的束斑沿预设方向扫描，以使所述光刻胶层的曝光位置呈线条阵列；对所述光刻胶层进行显影，形成配向膜沟槽阵列结构；其中，所述激光束包括第一激光束和第二激光束，所述第一激光束的束斑与所述第二激光束的束斑聚焦于同一焦点。
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