[发明专利]有机膜的刻蚀方法和显示基板显示区域电路的修补方法

摘要

本发明提供一种有机膜的刻蚀方法和显示基板显示区域电路的修补方法。该有机膜的刻蚀方法包括通过聚焦离子束对有机膜的待刻蚀位置进行刻蚀，刻蚀过程中，向有机膜的待刻蚀位置的待刻蚀面上通入水汽。该有机膜的刻蚀方法，通过在聚焦离子束刻蚀有机膜的工艺过程中向待刻蚀面上通入水汽，能够有针对性地快速刻蚀有机膜的待刻蚀位置，且在刻蚀过程中不会对有机膜的其他非刻蚀位置造成刻蚀损伤，从而解决了现有的浓硫酸刻蚀所导致的非刻蚀位置遭到刻蚀损伤的问题，同时还加快了刻蚀速度。

主权项

1.一种有机膜的刻蚀方法，包括通过聚焦离子束对所述有机膜的待刻蚀位置进行刻蚀，其特征在于，刻蚀过程中，向所述有机膜的所述待刻蚀位置的待刻蚀面上通入水汽。