[发明专利]化学水浴沉积系统及其使用方法有效
申请号: | 201811426547.2 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN111218675B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 王磊 | 申请(专利权)人: | 上海祖强能源有限公司 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12 |
代理公司: | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人: | 田俊峰 |
地址: | 201203 上海市浦东新区中*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请涉及一种化学水浴沉积系统及其使用方法。所述化学水浴沉积系统包括沉积装置、抓取装置和缓冲装置。所述沉积装置用于盛放化学试剂。所述抓取装置用于抓取运输基板,并将所述基板放置于所述沉积装置中的化学试剂中。所述缓冲装置设置于所述沉积装置。所述缓冲装置用于缓冲在所述沉积装置放入基板时所述基板对沉积装置底部的冲击力。通过先在所述沉积装置中盛有的混合均匀的化学试剂,可以使所述化学试剂在所述基板表面的沉积过程更为均匀。 | ||
搜索关键词: | 化学 水浴 沉积 系统 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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