[发明专利]一种高折射率光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜在审
| 申请号： | 201811431803.7 | 申请日： | 2018-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN109503149A | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 秦海波 | 申请（专利权）人： | 北京富兴凯永兴光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/46 | 分类号： | C04B35/46 |
| 代理公司： | 北京市商泰律师事务所 11255 | 代理人： | 黄晓军 |
| 地址： | 102629 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高折射率光学镀膜材料及其制备方法、光学增透膜，用以解决现有技术中氧化钛等增透膜材料易形成斑点、强度不高易产生划痕的问题。本发明的光学镀膜材料，为氧化钛‑三氧化二铝二元复合结构，通过在氧化钛原料中加入三氧化二铝后共烧，形成氧化钛‑三氧化二铝复合结构，获得更稳定的薄膜结构，从而解决了在镀制过程中的氧气释放问题，同时，氧化钛‑三氧化二铝二元结构形成的膜层强度明显比单独氧化钛膜层的强度大，所制备的增透膜不易产生划痕，寿命更长。 | ||
| 搜索关键词： | 三氧化二铝 氧化钛 光学镀膜材料 制备 光学增透膜 高折射率 增透膜 划痕 氧化钛膜层 氧化钛原料 薄膜结构 二元复合 二元结构 复合结构 氧气释放 斑点 镀制 共烧 膜层 | ||
【主权项】：
1.一种光学镀膜材料，其特征在于，所述材料为氧化钛‑三氧化二铝二元复合结构。
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