[发明专利]基于电泳、镭雕的微波产品连续蚀刻方法有效

专利信息
申请号: 201811434904.X 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109728396B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 毛小刚;李铁成 申请(专利权)人: 广德和捷电子科技有限公司
主分类号: H01P11/00 分类号: H01P11/00;C25D5/02;C25D5/48;C25D7/00;C25D13/04
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 242200 安徽省宣城市广*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了基于电泳、镭雕的微波产品连续蚀刻方法,包括以下步骤:(1)冲压,通过连续冲压冲成卷料;(2)电泳,通过电泳工艺,在冲压的卷料上覆盖一层厚度约10~15μ的电泳漆,作为抗蚀层;(3)镭雕,在镭雕机(激光)的作用下,将需要蚀刻区域上的抗蚀层剥离;(4)蚀刻,去除镭雕区域上的飞尘,保持表面完整无缺损,将整卷镭雕好的料放在连续蚀刻机送上放料,蚀刻机另一端收料机收料;(5)脱模,蚀刻完成后,通过连续脱模机去除附着在产品上不需要蚀刻表面上的抗蚀层;(6)电镀,卷对卷连续电镀;(7)冲切,通过模具/冶具/非标自动化将产品进行冲切分离;(8)包装,按照客户的要求进行包装。
搜索关键词: 基于 电泳 微波 产品 连续 蚀刻 方法
【主权项】:
1.基于电泳、镭雕的微波产品连续蚀刻方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)冲压,通过连续冲压冲成卷料;(2)电泳,通过电泳工艺,在冲压的卷料上覆盖一层厚度约10~15μ的电泳漆,作为抗蚀层;(3)镭雕,在镭雕机(激光)的作用下,将需要蚀刻区域上的抗蚀层剥离;(4)蚀刻,去除镭雕区域上的飞尘,保持表面完整无缺损,将整卷镭雕好的料放在连续蚀刻机送上放料,蚀刻机另一端收料机收料;(5)脱模,蚀刻完成后,通过连续脱模机去除附着在产品上不需要蚀刻表面上的抗蚀层;(6)电镀,卷对卷连续电镀;(7)冲切,通过模具/冶具/非标自动化将产品进行冲切分离;(8)包装,按照客户的要求进行包装。
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