[发明专利]掩模单元及曝光装置在审
| 申请号： | 201811477894.8 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN110018609A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 名古屋淳 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62;G03F1/64;G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供掩模单元及曝光装置。使膜掩模能够容易地紧贴于透明板，并消除被转印的图案的形状精度的下降的问题。支承于透明板(2)的膜掩模(1)的周边部被掩模框架(3)的真空吸附孔(34)真空吸附。形成于透明板(2)的与膜掩模(1)对置的面的排气槽(21)到达该面的右侧的边缘，在倒角部(22)的中途终止。曝光装置所具备的清洁辊(91)从膜掩模(1)的左侧的边缘至右侧的边缘一边与膜掩模(1)接触而滚动一边移动，进行异物(c)的去除与气泡(g)的挤出。形成了气泡(g)的气体经由排气槽(21)、吸引口(37)被排出。 | ||
| 搜索关键词： | 膜掩模 曝光装置 透明板 掩模单元 排气槽 真空吸附孔 掩模框架 真空吸附 倒角部 清洁辊 吸引口 周边部 异物 对置 排出 去除 支承 转印 紧贴 挤出 滚动 图案 移动 | ||
【主权项】：
1.一种掩模单元，搭载于曝光装置，其特征在于，该掩模单元具备：膜掩模；透明板，支承所述膜掩模；以及掩模框架，在周边部保持所述透明板，所述掩模框架具有能够将所述膜掩模真空吸附的真空吸附孔，在所述透明板的与所述膜掩模对置的面设有凹部或凸部，该凹部或凸部形成到达该面的一边的边缘的排气空间。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
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