[发明专利]易修饰近红外二区有机小分子染料及其合成方法和应用在审
| 申请号： | 201811479005.1 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN109456304A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 洪学传;肖玉玲;丁兵兵;周晖 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C07D333/78 | 分类号： | C07D333/78;C07D307/80;C09K11/06;C09B57/00;A61K49/00;G01N21/64 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 齐晨涵 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种易修饰近红外二区有机小分子染料及其合成方法和应用。本发明的此类近红外二区荧光染料属于多甲川吡喃或多甲川噻喃盐类有机小分子，由多甲川苯胺盐与吡喃或噻喃盐通过缩合反应制成。合成原料易得，成本低廉，制备过程简单，产率高，可大量合成。并通过改变分子内多甲川链及杂原子种类，达到调节荧光发射光谱的目的。此类小分子染料的最大发射波长范围1000‑1200nm，荧光量子产率高，光稳定性好，非常适用于活体成像。该类小分子染料可通过点击化学与具有特定功能的基团连接，实现多种生物成像应用。其近红外二区荧光活体成像背景噪音低，荧光信号强，信噪比高。 | ||
| 搜索关键词： | 染料 有机小分子 活体成像 合成 小分子 修饰 吡喃 噻喃 应用 荧光发射光谱 荧光量子产率 最大发射波长 背景噪音 点击化学 多甲川链 光稳定性 合成原料 基团连接 生物成像 缩合反应 荧光染料 荧光信号 制备过程 苯胺盐 信噪比 杂原子 荧光 产率 | ||
【主权项】：
1.一种易修饰近红外二区有机小分子染料，其特征在于：它具有如下结构式：![]()
其中：R选自氯或者氢；n＝1时，X为硫；n＝2时，X为氧。
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