[发明专利]流量分配装置、进气系统及反应腔室在审
申请号: | 201811482297.4 | 申请日: | 2018-12-05 |
公开(公告)号: | CN111276421A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 何漫丽 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创流量计有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 100176 北京市北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供的流量分配装置、进气系统和反应腔室,用于将混合后的多种气体按预设流量比例分配至腔室本体的不同位置,包括分别连接至腔室本体的多条支路、设置在每条支路上的流量调节单元和控制单元,其中,控制单元用于根据各支路的预设流量比例控制流量调节单元调节各对应支路的流量,以使各支路之间的实际流量比例达到预设流量比例。在本发明中,在控制单元的控制下计算每条支路的流量,并由流量调节单元根据该流量调节各支路上的流量,避免现有技术中手动调节流量不准确的问题,并且能够确保每次工艺所采用的流量是相同的,提高不同批次的产品的一致性。 | ||
搜索关键词: | 流量 分配 装置 系统 反应 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造