[发明专利]一种晶钻的磨抛加工方法有效

专利信息
申请号: 201811502273.0 申请日: 2018-12-10
公开(公告)号: CN109551309B 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 曹高月;狄小聪;胡方胜 申请(专利权)人: 浙江永耀机械科技有限公司
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 林元良
地址: 325000 浙江省温州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种晶钻的磨抛加工方法,包括如下步骤:1)将布设有晶钻的晶钻盘套装在放置台上;2)控制放置台水平移动至磨抛轮的下方,再控制该磨抛轮下方的放置台驱动装置上升,带动放置台上升以及旋转,使得晶钻盘上晶钻的待磨抛面与磨抛轮接触进行磨抛,待磨抛完成后再控制放置台驱动装置下降并与放置台分离;3)控制放置台水平移动至另一个磨抛轮的下方,并控制对应的放置台驱动装置带动放置台上升以及旋转,使得晶钻盘上晶钻的待磨抛面与该磨抛轮接触进行精磨抛,待磨抛完成后再控制放置台驱动装置下降并与放置台分离;4)将晶钻盘从放置台上取出。采用上述技术方案,可以稳定、高效、节能地完成晶钻的磨抛加工作业。
搜索关键词: 一种 加工 方法
【主权项】:
1.一种晶钻的磨抛加工方法,其特征在于包括如下步骤:1)将布设有晶钻的晶钻盘(17)套装在放置台(4)上,并使得晶钻的待磨抛面朝上;2)控制放置台(4)水平移动至磨抛轮(3)的下方,控制该磨抛轮(3)下方的放置台驱动装置上升,与所述放置台(4)连接,再带动所述放置台(4)上升并旋转,使得晶钻盘(17)上晶钻的待磨抛面与磨抛轮(3)接触进行磨抛作业,待磨抛完成后再通过放置台驱动装置带动放置台(4)下降与磨抛轮(3)分离,放置台(4)下降后抵放在移动架(7)上; 3)控制所述放置台(4)水平移动至另一个磨抛轮的下方,并控制另一个对应的放置台驱动装置上升带动放置台(4)上升并旋转,使得晶钻盘(17)上晶钻的待磨抛面与该磨抛轮接触进行精磨抛作业,待精磨抛完成后再通过放置台驱动装置带动放置台(4)下降与磨抛轮分离,放置台(4)下降后抵放在移动架(7)上;4)当晶钻完成所有磨抛作业后,将晶钻盘(17)从放置台(4)上取出。
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