[发明专利]晶圆洗刷装置在审
| 申请号： | 201811509094.X | 申请日： | 2018-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN109482538A | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 赵宁;史霄;佀海燕;尹影 | 申请（专利权）人： | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） |
| 主分类号： | B08B1/04 | 分类号： | B08B1/04;B08B3/12;B08B3/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 陈治位 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及清洗设备技术领域，具体而言，涉及一种晶圆洗刷装置。晶圆洗刷装置，包括：晶圆承载组件、上刷驱动组件和上刷清洗平台；所述上刷清洗平台和所述晶圆承载组件间隔设置，所述上刷清洗平台用于清洗设置在所述上刷驱动组件上的上滚刷，所述上刷驱动组件的一端设置在所述晶圆承载组件靠近所述所述上刷清洗平台的一侧，且所述上刷驱动组件的另一端能够在所述上刷清洗平台表面和所述晶圆承载组件上表面之间摆动以缓解现有技术中存在滚刷在对多个晶圆进行清洗后表面产生较多的污染物，影响后续的洗刷效果的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 上刷 晶圆 清洗平台 承载组件 驱动组件 洗刷装置 清洗 间隔设置 清洗设备 一端设置 后表面 上表面 上滚刷 摆动 滚刷 洗刷 种晶 污染物 缓解 | ||
【主权项】：
1.一种晶圆洗刷装置，其特征在于，包括：晶圆承载组件、上刷驱动组件和上刷清洗平台；所述上刷清洗平台和所述晶圆承载组件间隔设置，所述上刷清洗平台用于清洗设置在所述上刷驱动组件上的上滚刷，所述上刷驱动组件的一端设置在所述晶圆承载组件靠近所述所述上刷清洗平台的一侧，且所述上刷驱动组件的另一端能够在所述上刷清洗平台表面和所述晶圆承载组件上表面之间摆动。
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