[发明专利]一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811510821.4 申请日: 2018-12-11
公开(公告)号: CN109283605A 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 唐海江;李兵军;刘志鹏;赵东东;李刚;张彦 申请(专利权)人: 宁波激智科技股份有限公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02
代理公司: 北京策略律师事务所 11546 代理人: 张华;钟志红
地址: 315040 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及光学薄膜领域,具体涉及一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法。为了解决现有扩散膜辉度高但遮蔽性差的问题,本发明提供一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法。所述扩散膜包括透明基材、扩散大粒子涂层、扩散小粒子涂层和保护涂层;扩散大粒子涂层和扩散小粒子涂层设置在透明基材的上表面,保护涂层设置在透明基材的下表面。本发明提供的扩散膜不仅具有优异的扩散效果和光学性能,同时因扩散膜涂层中的大小粒子采用分层涂布方式而规则排列,提高膜片遮蔽性又不损失辉度,且制备方法工艺简单,易于操作。
搜索关键词: 扩散膜 扩散 光学扩散膜 透明基材 高辉度 遮蔽 制备 大粒子 小粒子 遮蔽性 辉度 制备方法工艺 光学薄膜 光学性能 规则排列 涂布方式 上表面 下表面 分层 膜片 粒子
【主权项】:
1.一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散膜包括透明基材、扩散大粒子涂层、扩散小粒子涂层和保护涂层。
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