[发明专利]有芯和无芯有机衬底中的磁性材料的脱模层辅助选择性嵌入在审

专利信息
申请号: 201811517826.X 申请日: 2018-12-12
公开(公告)号: CN110034101A 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: S·瓦德拉曼尼;P·查特吉;R·贾因;K·O·李;S·C·李;A·J·布朗;L·A·林克 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L23/64 分类号: H01L23/64;H01L23/14;H01F27/02;H01F27/255;H01F27/28
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 林金朝;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开了一种用于集成电路封装的衬底,该衬底包括电介质、该电介质内的至少一个导体平面、以及包括嵌入于所述电介质内的有机磁性层合体的平面磁性结构,其中所述平面磁性结构集成于所述至少一个导体平面内。
搜索关键词: 电介质 导体平面 平面磁性 衬底 嵌入 集成电路封装 磁性材料 结构集成 有机衬底 磁性层 脱模层 合体 无芯
【主权项】:
1.一种用于集成电路封装的衬底,所述衬底包括:电介质;所述电介质内的至少一个导体平面;以及平面磁性结构,其包括嵌入于所述电介质内的磁性层合体,其中所述磁性层合体包括有机材料,并且其中所述平面磁性结构集成于所述至少一个导体平面内。
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