[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质

摘要

本发明的技术问题为，在图案曝光后进行的使用LED的曝光处理装置中，避免由因LED的温度变化而发光状态改变所导致的处理中产生故障的情况。本发明的解决方案为，将从向壳体(10)内的送入晶片(W)时起至曝光后的晶片(W)的送出准备结束的时刻为止作为一个循环。将一个循环结束后下一循环开始为止产生的时间段设为待机时间段。当设空闲发光时、曝光时的照度分别为Id、Is，设空闲发光、曝光的时间分别为Td、Ts时，以Id＝(Tp/Td)·Iw－(Ts/Td)·Is的方式来决定Id，由此基片间的一个循环内的平均照度成为一定的。

主权项

1.一种基片处理装置，其能够在从外部向壳体内送入基片起至将该基片送出外部的准备就绪为止或者至基片被送出到外部为止的一个循环期间中，为了对基片进行处理而对该基片照射光，所述基片处理装置的特征在于，包括：设置于所述壳体内的基片的载置部；能够对载置于所述载置部的基片照射光的光源部，其发光状态因温度而改变；和控制部，其以如下方式输出控制信号：当将预先决定的所述一个循环的时间称为循环时间，并将为了对基片进行处理而对该基片照射光的时间段称为处理时间段时，在所述一个循环之中所述处理时间段以外的时间段使所述光源部空闲发光，根据所述处理时间段的照射区域的照度来调节空闲发光时的照射区域的照度，从而使基片间的所述一个循环内的照射区域的平均照度成为一定。