[发明专利]半导体装置封装及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811523001.9 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN110459519A 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 吕文隆;方仁广 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L23/48;H01L23/373;H01L23/31;H01L21/56;H01L23/367
代理公司: 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 蕭輔寬<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 中国台湾高雄市楠梓*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要: 半导体装置封装及其制造方法。本发明提供一种连接结构。所述连接结构包含中间导电层、第一导电层和第二导电层。所述中间导电层包含第一表面和与第一表面相对的第二表面。所述中间导电层具有第一热膨胀系数。所述第一导电层与所述中间导电层的第一表面接触。所述第一导电层具有第二CTE。所述第二导电层与所述中间导电层的第二表面接触。所述第一导电层和所述第二导电层由相同材料形成。所述第一CTE和所述第二CTE中的一者为负,且另一者为正。
搜索关键词: 中间导电层 第一导电层 第二导电层 第一表面 第二表面 连接结构 半导体装置 热膨胀系数 材料形成 封装 制造
【主权项】:
1.一种连接结构,其包括:/n中间导电层,其包含第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述中间导电层具有第一热膨胀系数(CTE);/n第一导电层,其与所述中间导电层的所述第一表面接触,所述第一导电层具有第二CTE;/n第二导电层,其与所述中间导电层的所述第二表面接触,/n其中所述第一导电层和所述第二导电层由相同材料形成;以及/n其中所述第一CTE和所述第二CTE中的一者为负,且另一者为正。/n
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