[发明专利]一种用于制备透明显示屏格栅的设备及其生产工艺在审

专利信息
申请号: 201811525486.5 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN109585517A 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 顾琼;毛秀芬;王莹;邓大庆 申请(专利权)人: 顾琼
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 合肥中谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34146 代理人: 洪玲
地址: 230000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种用于制备透明显示屏格栅的设备及其生产工艺,该设备包括前处理机构、若干镀膜机构、传送机构和其他功能机构,所述前处理机构包括表面前处理腔;所述镀膜机构包括Si膜制备腔、Au膜制备腔和Si基格栅制备腔,所述Si膜制备腔设置有真空系统、供气系统、热蒸发系统、磁控溅射系统和掩膜定位系统;所述Au膜制备腔设置有真空系统、供气系统、热蒸发系统、磁控溅射系统和掩膜定位系统;所述Si基格栅制备腔设置有真空系统、供气系统、热蒸发系统、磁控溅射系统、掩膜定位系统和加热系统。本发明通过设置多个相互独立的腔体,在衬底表面沉积薄膜,各操作可平行操作,降低单片衬底薄膜的生产时间,提高设备的利用率及透明显示屏格栅的生产效率。
搜索关键词: 制备 格栅 磁控溅射系统 透明显示屏 定位系统 供气系统 真空系统 热蒸发 掩膜 前处理 镀膜 生产工艺 表面前处理 沉积薄膜 衬底表面 传送机构 功能机构 加热系统 平行操作 生产效率 衬底 单片 腔体 薄膜 生产
【主权项】:
1.一种用于制备透明显示屏格栅的设备,其特征在于:包括前处理机构、若干镀膜机构、传送机构(8)和其他功能机构,所述前处理机构包括表面前处理腔(1),所述前处理腔(1)的内部设置有真空系统、供气系统、热蒸发系统、磁控溅射系统、掩膜定位系统;所述镀膜机构包括Si膜制备腔(2)、Au膜制备腔(3)和Si基格栅制备腔(4),所述Si膜制备腔(2)内设置有真空系统、供气系统、热蒸发系统、磁控溅射系统和掩膜定位系统;所述Au膜制备腔(3)内设置有真空系统、供气系统、热蒸发系统、磁控溅射系统和掩膜定位系统;所述Si基格栅制备腔(4)内设置有真空系统、供气系统、热蒸发系统、磁控溅射系统、掩膜定位系统和加热系统。
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