[发明专利]膜材料及锂电极片基材涂布加工方法在审
申请号: | 201811534516.9 | 申请日: | 2018-12-14 |
公开(公告)号: | CN109569953A | 公开(公告)日: | 2019-04-05 |
发明(设计)人: | 聂旭峰 | 申请(专利权)人: | 江西明冠锂膜技术有限公司 |
主分类号: | B05C1/10 | 分类号: | B05C1/10;B05C1/00;B05B15/50;B05C13/02;B05D1/28 |
代理公司: | 南昌赣西专利代理事务所(普通合伙) 36121 | 代理人: | 谢年凤 |
地址: | 336000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 发明公开一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法,包括以膜材料及锂电极片基材为加工对象的涂布基材,采用狭缝式涂布方法,对涂布单元的涂布基材进行涂布,其是采用恒温镜面辊为涂布装置,于涂布单元内设有按涂布基材和涂液相匹配对应的温度控制装置;同时控制涂布单元的温度范围为20‑80℃。采用狭缝式涂布方法,对涂布单元的涂布基材进行涂布,提高了膜材料及锂电极片基材涂布的质量,具有较好的经济效益。 | ||
搜索关键词: | 涂布单元 涂布基材 膜材料 片基材 锂电极 狭缝式涂布 涂布加工 温度控制装置 加工对象 涂布装置 镜面辊 涂液 匹配 | ||
【主权项】:
1.一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法,包括以膜材料及锂电极片基材为加工对象的涂布基材,采用狭缝式涂布方法,对涂布单元的涂布基材进行涂布,其特征是采用恒温镜面辊为涂布装置,于涂布单元内设有按涂布基材和涂液相匹配对应的温度控制装置;同时控制涂布单元的温度范围为20‑80℃。
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