[发明专利]显示面板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811544556.1 申请日: 2018-12-17
公开(公告)号: CN109659276B 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 袁文豪 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L21/336;H01L27/12;H01L29/786;G02F1/136
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提出了一种显示面板及其制作方法,所述制作方法包括:提供一基板,在所述基板上依次形成非晶硅层、第一金属层、第二金属层及第一光阻层;利用第一光罩工艺,所述第一金属层形成第一金属图案层,及所述第二金属层形成第二金属图案层;利用第一蚀刻工艺,使所述第一金属图案层形成保护层、及对所述非晶硅层图案化处理使所述非晶硅层形成有源层;利用第二蚀刻工艺,去除所述第二金属图案层及所述保护层边缘区域中超出所述有源层的部分,使所述第二金属图案层形成源漏极。本申请通过在有源层与源漏极之间形成以保护层,避免在进行源漏极图案化处理时,位于源漏极下方的有源层被蚀刻,提高了产品的良率和品质。
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括步骤:S10、提供一基板,在所述基板上形成一非晶硅层;S20、在所述非晶硅层上依次形成第一金属层、第二金属层及第一光阻层;S30、利用第一光罩工艺,使所述第一金属层形成第一金属图案层,及所述第二金属层形成第二金属图案层;S40、利用第一蚀刻工艺,使所述第一金属图案层形成保护层、及对所述非晶硅层图案化处理使所述非晶硅层形成有源层,所述有源层在所述第二金属图案层上的正投影位于所述第二金属图案层内;S50、利用第二蚀刻工艺,去除所述第二金属图案层及所述保护层边缘区域中超出所述有源层的部分,使所述第二金属图案层形成源漏极;S60、剥离所述第一光阻层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811544556.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top