[发明专利]一种高遮盖性的光学薄膜在审
| 申请号： | 201811547054.4 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN109459806A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 王巧;刘玉磊;李恒;范义胜;王辉;王旭亮 | 申请（专利权）人： | 合肥乐凯科技产业有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14 |
| 代理公司： | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人： | 李羡民;郭绍华 |
| 地址： | 230041 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明给出了一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层中有机粒子裸露在硬化层外表面高度H1为有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6。本发明通过硬化层涂布液中单体、有机粒子、有机溶剂的选择性使用，在特定烘箱干燥条件下，制备出的硬化层表面粒子上浮，提高薄膜遮盖性，可有效避免薄膜表面的短划伤、杂质点、灰尘等瑕疵的显现。本发明制备的光学薄膜，可以广泛应用于各类硬化膜、保护膜、复合膜等各个领域。 | ||
| 搜索关键词： | 硬化层 光学薄膜 有机粒子 遮盖性 透明支持体 制备 选择性使用 硬化层表面 薄膜表面 表面涂覆 烘箱干燥 平均粒径 有机溶剂 保护膜 复合膜 涂布液 硬化膜 划伤 上浮 瑕疵 薄膜 粒子 裸露 应用 | ||
【主权项】：
1.一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及在所述透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层是由包含单体、有机粒子和有机溶剂在内的涂布液涂布在透明支持体上，经不同温度的多级烘箱干燥、紫外光固化而成，其特征在于，所述有机粒子裸露在所述硬化层外表面的高度H1为所述有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6；所述单体的官能度介于1～3，所述单体的粘度为500cps以下，所述单体的分子量为300g/mol以下；所述有机溶剂包括第一有机溶剂和第二有机溶剂，所述第一有机溶剂的沸点为85℃以下，所述第一有机溶剂的比挥发速率为160以上；所述第二有机溶剂的沸点介于110℃～150℃，所述第二有机溶剂的比挥发速率介于50～160。
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