[发明专利]具有高附着力的超疏水涂层及其制备方法以及电子产品在审
| 申请号： | 201811549966.5 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN109650738A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 梁子辉;王世敏;董兵海;程凡;赵丽;万丽;王二静;李静 | 申请（专利权）人： | 湖北大学 |
| 主分类号： | C03C17/245 | 分类号： | C03C17/245 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 覃蛟 |
| 地址： | 430062 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有高附着力的超疏水涂层及其制备方法以及电子产品，该具有高附着力的超疏水涂层的制备包括：利用低表面能官能团修饰剂对基材表面的纳米二氧化硅涂层进行化学修饰，其中，纳米二氧化硅涂层通过等离子体增强化学气相沉积法制备得到。该电子产品，其表面附着有上述具有高附着力的超疏水涂层。通过采用等离子增强化学沉积法单独涂覆形成纳米二氧化硅，进而使得具有高附着力的超疏水涂层能够在基材表面的附着力强。再对稳定的纳米二氧化硅涂层通过低表面能官能团修饰剂进行修饰，降低光的反射率，又降低了低表面能官能团修饰剂对纳米二氧化硅涂层修饰过程对透光性的影响，从而提高了具有高附着力的超疏水涂层的透光性能。 | ||
| 搜索关键词： | 超疏水涂层 高附着力 纳米二氧化硅 官能团修饰 低表面能 电子产品 制备 基材表面 修饰 等离子体增强化学气相沉积 等离子增强 化学沉积法 表面附着 附着力强 化学修饰 透光性能 反射率 透光性 涂覆 | ||
【主权项】：
1.一种具有高附着力的超疏水涂层的制备方法，其特征在于，其包括：利用低表面能官能团修饰剂对基材表面的纳米二氧化硅涂层进行化学修饰，其中，所述纳米二氧化硅涂层通过等离子体增强化学气相沉积法制备得到。
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