[发明专利]用于形成光栅的装置有效
| 申请号： | 201811566456.9 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN109407194B | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 曾理江;冒新宇;赵宇暄;许晨璐 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/48 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种用于形成光栅的装置，该装置包括基板、反射部件和位置移动部件；基板与反射部件之间呈预设角度；位置移动部件与基板连接，用于使基板相对于反射部件至少延基板上待形成的光栅的栅线方向移动。本公开实施例提供的用于形成光栅的装置，通过位置移动部件使基板相对于反射部件至少延基板上待形成的光栅的栅线方向移动，可以减少曝光过程中激光散斑的影响，便于低杂散光光栅的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 光栅 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成光栅的装置，其特征在于，所述装置包括基板、反射部件和位置移动部件；所述基板与所述反射部件之间呈预设角度；所述位置移动部件与基板连接，用于使基板相对于反射部件至少延基板上待形成的光栅的栅线方向移动。
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