[发明专利]一种掩膜版用高精度二维运动机构

摘要

本发明公开了一种掩膜版用高精度二维运动机构，包括二维压电陶瓷电机组件，用于实现在X轴和Z轴两个方向上进行运动；支撑板，设置于所述二维压电陶瓷电机组件的Z轴伸缩杆的底端；掩膜版支架，设置于所述支撑板一端的上方，用于放置掩膜版；第二压片，设置在所述掩膜版支架上，用于将所述掩膜版压紧在所述掩膜版支架上。本发明的掩膜版用高精度二维运动机构克服了薄膜器件生长掩膜版运动精度以及掩膜版位置控制的问题，并且掩膜版图案更换方便；由于二维压电陶瓷电机组件体积小、行程大、精度高，可以将掩膜版用高精度二维运动机构尺寸做到很小；使用过程中不受基底尺寸和生长器件尺寸的限制、行程可以连续调节。

主权项

1.一种掩膜版用高精度二维运动机构，其特征在于：包括二维压电陶瓷电机组件(1)，用于实现在X轴和Z轴两个方向上进行运动；支撑板(2)，设置于所述二维压电陶瓷电机组件(1)的Z轴伸缩杆(11)的底端；掩膜版支架(3)，设置于所述支撑板(2)一端的上方，用于放置掩膜版(5)；第二压片(6)，设置在所述掩膜版支架(3)上，用于将所述掩膜版(5)压紧在所述掩膜版支架(3)上。